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产品名称 牌号 用途
负性光刻胶剥离液 ZX PS-650 用于负性光刻胶湿法剥离工艺
墨点去除液 ZX IR-659 用于探测墨点的清洗去除工艺
Post Etch/ash remover Al ZX R-655 用于铝工艺布线干法蚀刻后，线路侧壁的清洗工艺
Post Etch/ash remover Cu ZX R-656 用于铜工艺干法蚀刻后，双大马士革沟槽的清洗工艺
Post CMP cleaner ZX C-657 用于化学机械平坦化工艺后，晶圆表面的清洗工艺


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